|
На данной странице представлена ознакомительная часть выбранного Вами патента
Для получения более подробной информации о патенте (полное описание, формула изобретения и т.д.) Вам необходимо сделать заказ. Нажмите на «Корзину»
| СПОСОБ СУХОЙ ЛИТОГРАФИИ |  |
Номер публикации патента: 2082257 |  |
| Редакция МПК: | 6 | | Основные коды МПК: | H01L021/30 G03F007/26 | | Аналоги изобретения: | 1. Моро У. Микролитография. - М.: Мир, 1990, т. 1, 2, с. 23 - 34, 50 -59, 76 - 78. 2. Патент США N 3751285, кл. G 03 C 1/76, 1973. 3. Заявка ЕПВ N 0281182, кл. G 03 F 7/26, 1988. |
| Имя заявителя: | Институт микроэлектроники РАН | | Изобретатели: | Симаков Н.Н.
Федоров В.А.
Морозов О.В.
Филимонов С.И.
Буяновская П.Г. | | Патентообладатели: | Институт микроэлектроники РАН |
Реферат | |
Использование: микролитография. Сущность изобретения: способ заключается в том, что наносят слой резиста на подложку, формируют в нем скрытое изображение путем экспонирования. Нанесение слоя резиста на подложку осуществляют сухим методом плазменной полимеризации в две стадии, сначала формируют основной слой резиста непосредственно в плазме, а потом чувствительный слой - в зоне послесвечения плазмы. 7 з.п. ф-лы, 3 ил.
|
Поиск патентов
Получить полное описание патента