|
На данной странице представлена ознакомительная часть выбранного Вами патента
Для получения более подробной информации о патенте (полное описание, формула изобретения и т.д.) Вам необходимо сделать заказ. Нажмите на «Корзину»
| ФОТОПОЛИМЕРИЗУЮЩАЯСЯ КОМПОЗИЦИЯ |  |
Номер публикации патента: 2071610 |  |
| Редакция МПК: | 6 | | Основные коды МПК: | G03F007/028 | | Аналоги изобретения: | Европейский патент А-7508, кл. C 07 F 9/53, 1980. Европейский патент А-184095, кл. C 07 F 9/53, 1986. |
| Имя заявителя: | Циба-Гейги АГ (CH) | | Изобретатели: | Вернер Рутш[CH]
Курт Диетликер[CH]
Роджер Грэхэм Хол[GB] | | Патентообладатели: | Циба-Гейги АГ (CH) | | Номер конвенционной заявки: | 2897/89 | | Страна приоритета: | CH |
Реферат | |
Использование: в полиграфической промышленности. Сущность: фотополимеризующаяся композиция, включающая 100 мас. ч. по меньшей мере одной этиленненасыщенного фотополимеризующегося соединения и 0,2-0,5 мас.ч. фотоинициатора ф-лы (I), где R1 - замещенный фенилом или С2-C4 - алкокси группой С1-C4 - алкил или фенил. R2 имеет вышеуказанное значение R1 или остаток OCOR3 или OR4, или R1 и R2 вместе с атомом фосфора образуют дициклическое кольцо с 4-8 атомами углерода. R3 - незамещенный или замещенный галогеном C1-C8 - алкил, незамещенный или замещенный C1-C12 - алкилом или/и C2-C5-алкоксикарбонилом С5-C10-циклоалкил, незамещенный или С1-C12-алкилом тризамещенный фенил или C1-C12-алкокси группой или галогеном одно- или многозамещенный фенил, и R4- C1-C4 алкил при условии, что по меньшей мере один из остатков R1, R2 и R3 означает замещенный алкильный остаток или что R1 и R2 вместе с атомом фосфора образуют бициклическое кольцо, или что R3 означает замещенный циклоалкильный остаток, который не может содержать алкильные остатки в качестве единственных заместителей. 5 табл. Структура соединения ф-лы (I):
|
Поиск патентов
Получить полное описание патента