|
На данной странице представлена ознакомительная часть выбранного Вами патента
Для получения более подробной информации о патенте (полное описание, формула изобретения и т.д.) Вам необходимо сделать заказ. Нажмите на «Корзину»
| СУХОЙ ПЛЕНОЧНЫЙ ФОТОРЕЗИСТ |  |
Номер публикации патента: 2054706 |  |
| Редакция МПК: | 7 | | Основные коды МПК: | G03F007/09 | | Аналоги изобретения: | 1. Постоянный технологический регламент изготовления сухого фоторезиста СПФ-2 N 6-17-272, утвержден зам.нач.ВО "Союзхимфото" Н.И.Чекушкиным. 2. Авторское свидетельство СССР N 1098417, кл. G 03C 1/68, 1988. |
| Имя заявителя: | Товарищеское общество с ограниченной ответственностью "Полмар" | | Изобретатели: | Бутовецкий Д.Н.
Ковшова Н.Я.
Крупнов Г.П.
Быстров В.И.
Шипова Л.М. | | Патентообладатели: | Товарищеское общество с ограниченной ответственностью "Полмар" |
Реферат | |
Использование: изготовление печатных плат фотохимическим способом. Сущность изобретения: сухой пленочный фоторезистор (СПФ), состоящий из полиэтилентерефталатной основы, окрашенного светочувствительного слоя, защищенного полиэтиленовой пленкой, содержит полимерное связующее, растворимое в метилхлороформе 54,56 - 58,56 мас.
|
Поиск патентов
Получить полное описание патента