ЕР 1333313 A1, 06.08.2003. WO 01/50506 A1, 12.07.2001. ЕР 1253117 A1, 30.10.2002.
Имя заявителя:
СИН-ЭЦУ КЕМИКАЛ КО., ЛТД. (JP)
Изобретатели:
УЕДА Сухеи (JP) СИБАНО Юкио (JP)
Патентообладатели:
СИН-ЭЦУ КЕМИКАЛ КО., ЛТД. (JP)
Приоритетные данные:
15.12.2006 JP 2006-338344
Реферат
Способ содержит следующие этапы. (i) Удаляют трафаретную экранирующую свет пленку с использованной крупноразмерной подложки фотошаблона для предоставления крупноразмерной формирующей фотошаблон заготовки стеклянной подложки, которая должна восстанавливаться. (ii) Повторно очищают поверхность заготовки стеклянной подложки с использованием технологического инструмента пескоструйной обработки. (iii) Повторно полируют подвергнутую повторной очистке поверхности заготовку стеклянной подложки для получения восстановленной заготовки стеклянной подложки. (iv) Накладывают экранирующую свет пленку на восстановленную заготовку стеклянной подложки для получения восстановленной крупноразмерной формирующей фотошаблон заготовки. (v) Обрабатывают экранирующую свет пленку этой заготовки в шаблон, соответствующий требуемому экспонированию маточного стекла, получая восстановленную подложку фотошаблона. Технический результат - улучшение точности экспонирования, особенно точности и разрешения совмещения. 5 з.п. ф-лы, 4 ил.
Поиск патентов
Получить полное описание патента