На данной странице представлена ознакомительная часть выбранного Вами патента
Для получения более подробной информации о патенте (полное описание, формула изобретения и т.д.) Вам необходимо сделать заказ. Нажмите на «Корзину»
СПОСОБ ФОРМИРОВАНИЯ МАСКИРУЮЩЕГО СЛОЯ ФОТОШАБЛОНА | |
Номер публикации патента: 2017191 | |
Редакция МПК: | 7 | Основные коды МПК: | G03F001/00 | Аналоги изобретения: | Патент США N 4543270, кл. C 23C 11/02, 1985. |
Имя заявителя: | Трейгер Леонид Михайлович,Попов Артем Алексеевич | Изобретатели: | Трейгер Леонид Михайлович Попов Артем Алексеевич | Патентообладатели: | Трейгер Леонид Михайлович Попов Артем Алексеевич |
Реферат | |
Использование: область микроэлектроники, изготовление фотошаблонов для фотолитографии. Сущность изобретения: подложку фотошаблона помещают в объем с газообразным соединением. Над рабочей стороной подложки размещают пластину, пропускающую лазерное излучение, с образованием зазора, равного 0,01 - 2 мм.
|