GB 2081462 А, 17.02.1982. ЕР 0138459 А, 24.04.1985. RU 2030775 C1, 10.03.1995. SU 552585 A1, 30.03.1977. SU 544929 A1, 30.01.1977.
Имя заявителя:
Институт высокомолекулярных соединений Российской Академии наук (RU), Государственное образовательное учреждение высшего профессионального образования Санкт-Петербургский государственный технологический институт (Технический университет) (RU)
Изобретатели:
Рудая Людмила Ивановна (RU) Шаманин Валерий Владимирович (RU) Климова Наталья Владимировна (RU) Лебедева Галина Константиновна (RU) Большаков Максим Николаевич (RU) Марфичев Алексей Юрьевич (RU)
Патентообладатели:
Институт высокомолекулярных соединений Российской Академии наук (RU) Государственное образовательное учреждение высшего профессионального образования Санкт-Петербургский государственный технологический институт (Технический университет) (RU)
Реферат
Изобретение относится к способу получения материала для формирования матричной триады светофильтров, предназначенных для создания активно-матричных жидкокристаллических экранов. Описывается способ получения термостойкого материала для создания матричной триады светофильтров для активно-матричных жидкокристаллических экранов, включающий последовательное формирование дискретного окрашенного микрорельефа из фоточувствительной композиции и красителя. В качестве фоточувствительной композиции используют фоторезист, включающий кремнийсодержащий поли(о-гидроксиамид) на основе, продукта поликонденсации 3,3'-дигидрокси-4,4'-диаминодифенилметана и бис-(3-аминопропил)диметилсилоксана при их массовом соотношении от 9:1 до 1:9 с дихлоридом изофталевой кислоты, о-аминофенолом и эпихлоргидрином в амидном растворителе, фоточувствительный компонент ,-бис-нафтохинондиазидо-(1,2)-5-сульфоэфир-(4-гидроксифенил)пропана и фотогенератор кислоты - ,-бис-нафтохинондиазидо-(1,2)-4-сульфоэфир-(4-гидроксифенил)пропана, с последующим введением в фоточувствительную композицию красителя из ряда триады красителей, формированием на субстрате окрашенного микрорельефа и термозадубливанием при 200-220°С. Предложенный способ обеспечивает формирование высокоразрешенного окрашенного микрорельефа и полосовых фильтров на стеклянных подложках и узкополосные контрастные линии в активно-матричных жидкокристаллических экранах. 4 з.п. ф-лы, 1 табл.