На данной странице представлена ознакомительная часть выбранного Вами патента

Для получения более подробной информации о патенте (полное описание, формула изобретения и т.д.) Вам необходимо сделать заказ. Нажмите на «Корзину»

Вернуться к списку

ФОТОПОЛИМЕРИЗУЮЩАЯСЯ КОМПОЗИЦИЯ ДЛЯ СУХОГО ПЛЕНОЧНОГО ФОТОРЕЗИСТА

Номер публикации патента: 2163724

Вид документа:  C1  Страна публикации:  RU  Рег. номер заявки:  99114721/04		Получить полное описание патента

Реферат

Изобретение относится к фторполимеризующимся композициям для сухих пленочных фоторезистов водно-щелочного проявления, находящих применение для получения рисунка при изготовлении печатных плат в радиоэлектронной промышленности. Описывается фотополимеризующаяся композиция для сухого пленочного фоторезиста, включающая сополимер стирола с моно-н-бутилмалеинатом, дифункциональный акрилат, (-хлор-2-гидрокси-3-метакрилоилоксипропан, ингибитор, фотоинициатор, краситель и соединение гликоля. Она отличается тем, что содержит сополимер стирола с моно-н-бутилмалеинатом с ММ = 20 - 35,0 тыс.у.е., а в качестве соединения гликоля - продукт этерификации гликоля дикарбоновой кислотой формулы 1: НООС-(А)-СО-(СН2-СН2-О-)-СО-(А)-СООН, где А = -(СН2-)4-, (СН2-)6- или m = 1 - 3, при следующем соотношении компонентов, мас.ч.: сополимер стирола с моно-н-бутилмалеинатом 100, фотоинициатор 3 - 8, ингибитор 0,01 - 0,1, дифункциональный акрилат 40 - 70, 1-хлор-2-гидрокси-3-метакрилоилоксипропан 5 - 35, краситель 0,15 - 0,35, соединение структурной формулы 1 0,3 - 5,0. Технический результат - повышение гальванохимической стойкости композиции в электролитах меднения, в том числе устойчивости к щелочным растворам травления. 1 табл.

Вернуться к списку