|
На данной странице представлена ознакомительная часть выбранного Вами патента
Для получения более подробной информации о патенте (полное описание, формула изобретения и т.д.) Вам необходимо сделать заказ. Нажмите на «Корзину»
| СВЕТОЧУВСТВИТЕЛЬНАЯ КОМПОЗИЦИЯ ДЛЯ ГОЛОГРАФИИ |  |
Номер публикации патента: 1369546 |  |
| Редакция МПК: | 6 | | Основные коды МПК: | G03C001/72 | | Аналоги изобретения: | Bartolini R.A., Appl.Opt. 1974, vol.13, p.129. Norman S.L., Sing M.P., Appl. Opt. 1975, vol.14, p.818. Livanos A.C., Katzir A., Shellan J.B., Jariv A., Appl.Opt., 1977, vol.16, p.1633. Clark G. Solid Techn., 1971, vol.14, p.52, vol.9, p.48. Фотохимические процессы в слоях /Под ред.А.В.Ельцова - Л.: Химия, 1978, с.92. Патент Франции N 1.511.485, кл. G 03 C, 1979. Светочувствительные полимерные материала /Под ред.А.В.Ельцова - Совместное издание СССР и ЧССР. - Л.: Химия, 1985, с.133. Beesley M.Y., Castledine J., Appl.Opt., 1970, vol.9, p.2720. Орлова Н.А., Дмитриева Л.Л., Герасимова Т.Н., Фокин Е.П. Изв. Сиб. отд. АН СССР, 1976, N 7, Сер. хим. наук, вып.3, с.114. Выложенная заявка ФРГ N 3417607, кл. G 03 F 7/00, 1984. |
| Имя заявителя: | | | Изобретатели: | Кулыгина Н.А.
Полянский А.А.
Селезнев В.А.
Фокин Е.П.
Герасимова Т.Н.
Орлова Н.А.
Малыхин |
Реферат | |
Изобретение касается светочувствительных композиций для голографии и элементов киноформной оптики. Для повышения разрешающей способности композиции на основе пленкообразующего компонента (ПОК), растворителя (PC), светочувствительного компонента (СЧК) используют в качестве ПОК новолачную фенолформальдегидную смолу формулы : HO - C6H4 - CH2 [C6 H3 (OH) - CH2 ]n C6 H4 - OH, в которой число фрагментов -n =4-8, с мол.мас. 642, в качестве PC - диглим, а в качестве СЧК - 1,2,4-трифтор-3,9-диазидоакридин. В составе композиции содержится, мас.%: ПОК 7,5-15, СЧК 0,5-1,5 и PC - остальное. Указанные композиции позволяют получать дифракционные решетки с высоким разрешением, причем светочувствительные слои имеют высокую стабильность (5 мес.), разрешающую способность 3600 лин/мм (против 1000 лин/мм) и дифракционную эффективность при 300-400 нм 49-51% (против 30% в фоторезисте). 3 табл.
|
Поиск патентов
Получить полное описание патента