|
На данной странице представлена ознакомительная часть выбранного Вами патента
Для получения более подробной информации о патенте (полное описание, формула изобретения и т.д.) Вам необходимо сделать заказ. Нажмите на «Корзину»
| ЛИТОГРАФИЧЕСКАЯ МАСКА ДЛЯ LIGA - ТЕХНОЛОГИИ И СПОСОБ ЕЕ ИЗГОТОВЛЕНИЯ |  |
Номер публикации патента: 2350995 |  |
| Редакция МПК: | 7 | | Основные коды МПК: | G03F007/00 | | Аналоги изобретения: | ПЕТРОВ Е.В, ГОЛЬДЕНБЕРГ Б.Г., КОНДРАТЬЕВ В.И, МЕЗЕНЦЕВА Л.А, ПИНДЮРИН В.Ф, ГЕНЦЕЛЕВ А.Н, ЕЛИСЕЕВ B.C., ЛЯХ В.В. СОЗДАНИЕ РЕНТГЕНОШАБЛОНА НА ТОЛСТОЙ ПОДЛОЖКЕ ДЛЯ ГЛУБОКОЙ РЕНТГЕНОВСКОЙ ЛИТОГРАФИИ, ПОВЕРХНОСТЬ. РЕНТГЕНОВСКИЕ, СИНХРОТРОННЫЕ И НЕЙТРОННЫЕ ИССЛЕДОВАНИЯ, 2007, № 6, с.1-6. JP 7135156 A, 23.05.1995. JP 2005175406 A, 30.06.2005. JP 11297593 |
| Имя заявителя: | Институт ядерной физики им. Г.И.Будкера СО РАН (RU) | | Изобретатели: | Генцелев Александр Николаевич (RU)
Гольденберг Борис Григорьевич (RU)
Елисеев Владимир Сергеевич (RU)
Кондратьев Владимир Иванович (RU)
Петрова Екатерина Владимировна (RU)
Пиндюрин Валерий Федорович (RU) | | Патентообладатели: | Институт ядерной физики им. Г.И.Будкера СО РАН (RU) |
Реферат | |
Использование: для изготовления литографической маски. Сущность: формируют на рабочей поверхности несущей мембраны топологический рентгенопоглощающий рисунок, при этом идентичный топологический рентгенопоглощающий рисунок из того же материала (или комбинации материалов), такой же толщины и пространственно совмещенный с первым формируют также и на противоположной стороне несущей мембраны.
|
Поиск патентов
Получить полное описание патента