Промышленная Сибирь Ярмарка Сибири Промышленность СФО Электронные торги НОУ-ХАУ Электронные магазины Карта сайта
 
Ника
Ника
 

Поиск патентов

Как искать?
Реферат
Название
Публикация
Регистрационный номер
Имя заявителя
Имя изобретателя
Имя патентообладателя

    





Оформить заказ и задать интересующие Вас вопросы Вы можете напрямую c 6-00 до 14-30 по московскому времени кроме сб, вс. whatsapp 8-950-950-9888

На данной странице представлена ознакомительная часть выбранного Вами патента

Для получения более подробной информации о патенте (полное описание, формула изобретения и т.д.) Вам необходимо сделать заказ. Нажмите на «Корзину»


УСТРОЙСТВО УПРАВЛЕНИЯ АМПЛИТУДНЫМ ПРОПУСКАНИЕМ СВЕТОВОГО ПУЧКА

Номер публикации патента: 2472194

Вид документа: C1 
Страна публикации: RU 
Рег. номер заявки: 2011116723/28 
  Сделать заказПолучить полное описание патента

Редакция МПК: 
Основные коды МПК: G02F001/03    
Аналоги изобретения: ХАСПЕРДЖЕР Р. Интегральная оптика: теория и технология. - М.: Мир, 1985, с.170. SU 194358 А, 30.03.1967. BY 5251 C1, 30.06.2003. US 6353690 B1, 05.03.2002. 

Имя заявителя: Государственное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Самарский государственный аэрокосмический университет имени академика С.П. Королева (национальный исследовательский университет) (СГАУ) (RU) 
Изобретатели: Матюнин Сергей Александрович (RU)
Паранин Вячеслав Дмитриевич (RU) 
Патентообладатели: Государственное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Самарский государственный аэрокосмический университет имени академика С.П. Королева (национальный исследовательский университет) (СГАУ) (RU) 

Реферат


Изобретение относится к области квантовой электроники. Устройство управления амплитудным пропусканием светового пучка содержит источник электрического напряжения, одноосный электрооптический кристалл в виде пластины х-среза с нанесенными на верхнюю поверхность ортогональными z-оси оптической анизотропии электрооптического кристалла управляющими линейными электродами, выполненными в виде встречно-штыревой структуры и образующими дифракционную решетку. На поверхности электрооптического кристалла нанесены первое и второе поляризующие покрытия, причем первое поляризующее покрытие нанесено на нижнюю поверхность электрооптического кристалла так, что ось его пропускания составляет угол 0°<<90° с z-осью оптической анизотропии электрооптического кристалла, а второе поляризующее покрытие нанесено на верхнюю поверхность электрооптического кристалла так, что его ось пропускания параллельна y-оси или z-оси оптической анизотропии электрооптического кристалла. Технический результат: снижение управляющих напряжений. 2 ил.

Дирекция сайта "Промышленная Сибирь"
Россия, г.Омск, ул.Учебная, 199-Б, к.408А
Сайт открыт 01.11.2000
© 2000-2018 Промышленная Сибирь
Разработка дизайна сайта:
Дизайн-студия "RayStudio"