|
На данной странице представлена ознакомительная часть выбранного Вами патента
Для получения более подробной информации о патенте (полное описание, формула изобретения и т.д.) Вам необходимо сделать заказ. Нажмите на «Корзину»
| ШТАТИВ ДЛЯ ПОДЛОЖКИ |  |
Номер публикации патента: 2315342 |  |
| Редакция МПК: | 7 | | Основные коды МПК: | G02B021/26 | | Аналоги изобретения: | SU 34178 A1, 31.01.1934. RU 2037854 C1, 19.06.1995. RU 2206913 C2, 20.06.2003. FR 2819593, 19.07.2002. FR 2833718, 20.06.2003. |
| Имя заявителя: | Институт физики полупроводников Сибирского отделения Российской академии наук (RU) | | Изобретатели: | Ефимов Валерий Михайлович (RU) | | Патентообладатели: | Институт физики полупроводников Сибирского отделения Российской академии наук (RU) |
Реферат | |
Изобретение относится к оборудованию для микроэлектронной области техники. Изобретение направлено на повышение процента соединенных контактов до 99,75 за счет значительного повышения точности установки плоскопараллельности двух плоских подложек, имеющих множество контактов в виде выступов, в том числе, с уменьшенной величиной высоты выступов контактов.
|
Поиск патентов
Получить полное описание патента