Промышленная Сибирь Ярмарка Сибири Промышленность СФО Электронные торги НОУ-ХАУ Электронные магазины Карта сайта
 
Ника
Ника
 

Поиск патентов

Как искать?
Реферат
Название
Публикация
Регистрационный номер
Имя заявителя
Имя изобретателя
Имя патентообладателя

    





Оформить заказ и задать интересующие Вас вопросы Вы можете напрямую c 6-00 до 14-30 по московскому времени кроме сб, вс. whatsapp 8-950-950-9888

На данной странице представлена ознакомительная часть выбранного Вами патента

Для получения более подробной информации о патенте (полное описание, формула изобретения и т.д.) Вам необходимо сделать заказ. Нажмите на «Корзину»


УСТРОЙСТВО ДЛЯ ОПРЕДЕЛЕНИЯ ЭЛЕКТРОФИЗИЧЕСКИХ ПАРАМЕТРОВ ПОЛУПРОВОДНИКОВЫХ ПЛАСТИН

Номер публикации патента: 2101721

Вид документа: C1 
Страна публикации: RU 
Рег. номер заявки: 96104198 
  Сделать заказПолучить полное описание патента

Редакция МПК: 
Основные коды МПК: G01R031/265   H01L021/66    
Аналоги изобретения: 1. Панков Ж. Оптические процессы в полупроводниках. - М.: Мир, 1973, с.125. 2. D.V.Lang. Deep-Level Transient Spectroscopy: A New Method to Characterize Traps in Semiconductors. Journ. Appl. Phys., v. 45, N 7, 1974, p.3023. 3. Денисов А.А., Лактюшкин В.Н., Садофеев Ю.Г. Релаксационная спектроскопия глубоких уровней. Обзоры по электронной технике. Серия 7. Технология, организация производства и оборудование. Вып.15. - М.: Изд. ЦНИИ "Электроника", 1985. 4. Берман Л.С., Лебедев А.А. Емкостная спектроскопия глубоких центров в полупроводниках. - Л.: Наука, 1981. 

Имя заявителя: Подшивалов Владимир Николаевич 
Патентообладатели: Подшивалов Владимир Николаевич 

Реферат


Устройство для определения электрофизических параметров полупроводниковых пластин содержит термостолик из проводящего материала, обеспечивающий нагрев или (и) охлаждение находящейся на нем полупроводниковой пластины, датчик температуры полупроводниковой пластины и анализатор сигнала, обеспечивающий регистрацию амплитудно-временных характеристик сигнала, дополнительно введены источник электромагнитного излучения, выполненный с возможностью изменения излучения во времени по импульсной или периодической зависимости, а энергия кванта излучения источника выше порога генерации свободных носителей заряда в полупроводнике пластины, плоский прозрачный электрод из проводящего материала и высокоомный измерительный усилитель напряжения, причем источник электромагнитного излучения расположен над полупроводниковой пластиной и выполнен с возможностью ее облучения через прозрачный электрод, расположенный параллельно полупроводниковой пластине, между полупроводниковой пластиной и прозрачным электродом имеется прозрачная диэлектрическая прослойка, сам электрод присоединен к входу высокоомного измерительного усилителя, а выход этого усилителя подсоединен к анализатору сигнала. 1 з. п. ф-лы, 1 ил.


Дирекция сайта "Промышленная Сибирь"
Россия, г.Омск, ул.Учебная, 199-Б, к.408А
Сайт открыт 01.11.2000
© 2000-2018 Промышленная Сибирь
Разработка дизайна сайта:
Дизайн-студия "RayStudio"