Промышленная Сибирь Ярмарка Сибири Промышленность СФО Электронные торги НОУ-ХАУ Электронные магазины Карта сайта
 
Ника
Ника
 

Поиск патентов

Как искать?
Реферат
Название
Публикация
Регистрационный номер
Имя заявителя
Имя изобретателя
Имя патентообладателя

    





Оформить заказ и задать интересующие Вас вопросы Вы можете напрямую c 6-00 до 14-30 по московскому времени кроме сб, вс. whatsapp 8-950-950-9888

На данной странице представлена ознакомительная часть выбранного Вами патента

Для получения более подробной информации о патенте (полное описание, формула изобретения и т.д.) Вам необходимо сделать заказ. Нажмите на «Корзину»


ИНТЕГРАЛЬНЫЙ ТЕПЛОВОЙ ЭЛЕМЕНТ

Номер публикации патента: 2141649

Вид документа: C1 
Страна публикации: RU 
Рег. номер заявки: 98102882 
  Сделать заказПолучить полное описание патента

Редакция МПК: 
Основные коды МПК: G01N027/14   G01J003/10    
Аналоги изобретения: SU 1805372 A1, 30.03.93. DE 3705831 A1, 11.02.88. C.L.Johnson et al. A Thin-Film Gas Detector For Semiconductor Proctss Gases Digest Inf. Conf IEDM 88, p. 662 - 665. RU 2054664 C1, 20.02.96. WO 83/03001 A1, 01.09.83. SU 550538 A, 15.07.77. 

Имя заявителя: Березкин Валерий Алексеевич 
Изобретатели: Березкин В.А.
Дмитриев В.К.
Качуровский Ю.Г.
Шкуропат И.Г. 
Патентообладатели: Березкин Валерий Алексеевич
Дмитриев Виталий Константинович
Качуровский Юрий Григорьевич
Шкуропат Иван Георгиевич 

Реферат


Использование: в качестве нагревателя интегрального полупроводникового газового датчика, инфракрасного излучателя адсорбционного оптического газоанализатора, активатора печатающей головки струйного принтера. Технический результат - повышение надежности и долговечности теплового элемента. Сущность: наносят тонкий слой монокристаллического кремния на многослойную диэлектрическую тонкопленочную мембрану, на незащищенную поверхность кремниевого слоя наносят многослойную диэлектрическую пленку, причем слои этой пленки идентичны слоям мембраны и расположены зеркально симметрично относительно слоя кремния, в качестве пленки используют комбинацию слоев диэлектриков SiO2 и Si3N4 с соотношением толщин (3,5 - 2,7):1,0, слой SiO2 прилегает к слою кремния. 2 ил.


Дирекция сайта "Промышленная Сибирь"
Россия, г.Омск, ул.Учебная, 199-Б, к.408А
Сайт открыт 01.11.2000
© 2000-2018 Промышленная Сибирь
Разработка дизайна сайта:
Дизайн-студия "RayStudio"