На данной странице представлена ознакомительная часть выбранного Вами патента
Для получения более подробной информации о патенте (полное описание, формула изобретения и т.д.) Вам необходимо сделать заказ. Нажмите на «Корзину»
СПОСОБ ОБНАРУЖЕНИЯ И КОНТРОЛЯ РАЗВИТИЯ ДЕФЕКТОВ НА МЕТАЛЛИЧЕСКИХ ПОВЕРХНОСТЯХ ОБЪЕКТОВ | |
Номер публикации патента: 2120121 | |
Редакция МПК: | 6 | Основные коды МПК: | G01N022/02 | Аналоги изобретения: | SU, авторское свидетельство, 1822952, кл. G 01 N 22/02, 1993. |
Имя заявителя: | Всероссийский научно-исследовательский институт природных газов и новых технологий | Изобретатели: | Пчельников Ю.Н. Гриценко А.И. Дымшиц Р.М. Федичкин Г.М. Сулимин А.Д. Галиуллин З.Т. Карпов С.В. Сулимин В.Д. | Патентообладатели: | Всероссийский научно-исследовательский институт природных газов и новых технологий |
Реферат | |
Способ обнаружения и контроля дефектов на металлических поверхностях объектов относится к измерительной технике, а именно к контролю состояния поверхности нагруженных металлических сооружений и объектов, установленных в коррозионных средах различной степени агрессивности в условиях подземного, атмосферного или подводного воздействия, в частности для обнаружения и контроля развития трещин на поверхностях нефте- или газопроводов, защищенных антикоррозионным покрытием, и заключается в том, что в формирователе переменного электромагнитного поля возбуждают и распространяют замедленную волну магнитного по типа, в поле которой помещают поверхность контролируемого объекта, заполненном материалом защитного покрытия. Изменения мнимой части постоянной распространения замедленной волны преобразуют в информативный сигнал, по которому судят о наличии и размерах дефектов. Для исключения влияния свойств материала защитного покрытия в зазоре на результаты измерений энергию магнитного поля, сформированного замедленной волной, смещают в область зазора. При этом для обеспечения требуемой чувствительности измерений величины зазора выбирают не более λз/2π, где λз - длина замедленной волны, проходящей через формирователь, а конфигурация формирователя должна повторять конфигурацию поверхности контролируемого объекта. 3 з.п. ф-лы.
|