Промышленная Сибирь Ярмарка Сибири Промышленность СФО Электронные торги НОУ-ХАУ Электронные магазины Карта сайта
 
Ника
Ника
 

Поиск патентов

Как искать?
Реферат
Название
Публикация
Регистрационный номер
Имя заявителя
Имя изобретателя
Имя патентообладателя

    





Оформить заказ и задать интересующие Вас вопросы Вы можете напрямую c 6-00 до 14-30 по московскому времени кроме сб, вс. whatsapp 8-950-950-9888

На данной странице представлена ознакомительная часть выбранного Вами патента

Для получения более подробной информации о патенте (полное описание, формула изобретения и т.д.) Вам необходимо сделать заказ. Нажмите на «Корзину»


СПОСОБ АНАЛИЗА ТВЕРДЫХ ТЕЛ С ПОМОЩЬЮ ИОННОГО ИСТОЧНИКА ТЛЕЮЩЕГО РАЗРЯДА С ПОЛЫМ КАТОДОМ

Номер публикации патента: 2174676

Вид документа: C1 
Страна публикации: RU 
Рег. номер заявки: 2000109339/28 
  Сделать заказПолучить полное описание патента

Редакция МПК: 
Основные коды МПК: G01N021/62    
Аналоги изобретения: F. Adams et all. Inorganic mass spectrometry. J. Willey and Sons, 1988, p. 404. SU 371488 A, 09.04.1973. SU 1665286 A1, 23.07.1991. RU 2031401 C1, 20.03.1995. RU 2147387 C1, 10.04.2000. EP 0407030 A1, 09.01.1991. 

Имя заявителя: Институт проблем технологии микроэлектроники и особочистых материалов РАН 
Изобретатели: Сихарулидзе Г.Г. 
Патентообладатели: Институт проблем технологии микроэлектроники и особочистых материалов РАН 

Реферат


Использование: в области аналитической химии, например, для элементного анализа компактных твердых тел методом эмиссионного спектрального анализа и масс-спектральным методом. Техническим результатом изобретения является увеличение эффективности ионного источника при анализе твердых тел за счет повышения степени ионизации и стабильности аналитического сигнала, а также расширение видов анализируемых веществ, в частности, компактных. Способ анализа твердых тел с помощью ионного источника тлеющего разряда с полым катодом включает размещение анализируемого вещества в полом катоде, причем анализируемое вещество берут в виде стержня, закрепляют его на оси полого катода и процесс ведут при давлении газа в полом катоде и разрядном напряжении между катодом и анодом, подобранными таким образом, что образующаяся плазма проникает в полость катода на глубину 5 - 10 мм. 1 ил.


Дирекция сайта "Промышленная Сибирь"
Россия, г.Омск, ул.Учебная, 199-Б, к.408А
Сайт открыт 01.11.2000
© 2000-2018 Промышленная Сибирь
Разработка дизайна сайта:
Дизайн-студия "RayStudio"