На данной странице представлена ознакомительная часть выбранного Вами патента
Для получения более подробной информации о патенте (полное описание, формула изобретения и т.д.) Вам необходимо сделать заказ. Нажмите на «Корзину»
СПОСОБ ПОСЛОЙНОГО ЛАЗЕРНОГО СПЕКТРАЛЬНОГО АНАЛИЗА | |
Номер публикации патента: 2110777 | |
Редакция МПК: | 6 | Основные коды МПК: | G01J003/443 | Аналоги изобретения: | Дробышев И.А. Послойный атомно-эмиссионный спектральный анализ в источниках света с катодным распылением проб. - Журнал прикладной спектроскопии, т.56, N 1, 1992, с.7 - 11. F.Brech et al. Applied Spectroscopy, v.16, N 1, 1962, p.59. Tsuyoschi Ozaki et al. "Grant Pulse Laser Direct Spectrochemical Analysis of C., Si and Mu Liguid Jron", Transactions ISIJ, v.24, 1984, p.463 - 470. |
Имя заявителя: | Государственное предприятие Техноцентр "Лазерная диагностика и чистые технологии" НИКИЭТ | Изобретатели: | Вовк С.М. Кондратов С.В. Соломко К.А. | Патентообладатели: | Государственное предприятие Техноцентр "Лазерная диагностика и чистые технологии" НИКИЭТ |
Реферат | |
Использование: промышленная технология, аналитическая химия, научные исследования, медицина, биология, криминалистика, экология и т.д. Сущность изобретения: способ включает атомизацию образца с одновременным разогревом атомных паров и переводом их в плазменное состояние путем воздействия импульсного лазерного излучения, поперечный профиль пучка которого близок к прямоугольному, с плотностью мощности на поверхности образца 7 · 10 - 1 · 108 Вт/см2 и энергией в импульсе 30-50 мДж, причем воздействие осуществляют сдвоенными импульсами, частота повторения которых не менее 10 Гц, а задержка второго импульса относительно первого составляет 5-40 мкс. После этого проводят сбор излучения лазерной плазмы, его транспортировку и спектральную селекцию с измерением относительной интенсивности аналитических линий. Затем осуществляют компьютерную обработку результатов анализа. 2 табл., 1 ил.
|