|
На данной странице представлена ознакомительная часть выбранного Вами патента
Для получения более подробной информации о патенте (полное описание, формула изобретения и т.д.) Вам необходимо сделать заказ. Нажмите на «Корзину»
| КУМУЛЯТИВНЫЙ ЗАРЯД |  |
Номер публикации патента: 2140054 |  |
| Редакция МПК: | 6 | | Основные коды МПК: | F42B003/08 | | Аналоги изобретения: | US 4450768, 29.05.84. SU 1814838 A3, 20.08.97. SU 189370, 05.01.67. US 4109576, 29.08.78. GB 1100354, 24.01.68. FR 2563517, 31.10.85. DE 19630339 A1, 30.01.97. |
| Имя заявителя: | Российский федеральный ядерный центр - Всероссийский научно-исследовательский институт технической физики | | Изобретатели: | Антипинский С.П.
Иванов А.С.
Найченко А.В.
Зеленов А.Н.
Скворцов А.Е.
Василевич С.П.
Дикий А.Е.
Павленко Г.А.
Пантюхин Б.С.
Юдин С.Ю.
Смотров Н.В.
Соколов М.Л. | | Патентообладатели: | Российский федеральный ядерный центр - Всероссийский научно-исследовательский институт технической физики
ОАО "Ноябрьскнефтегазгеофизика" |
Реферат | |
Изобретение относится к технике разрывных зарядов, используемых в нефтегазодобывающей и горнодобывающей промышленности. Кумулятивный заряд содержит корпус, основной заряд ВВ с кумулятивной выемкой и инициатор в форме тела вращения с плотностью ВВ, уменьшающейся по оси симметрии от большего основания к меньшему. Инициатор выполнен цилиндроконической формы. Цилиндр, опирающийся на большое основание усеченного конуса, противоположным основанием опирается на торец шашки ВВ основного заряда и соответствует его диаметру. Угол конусности конической части инициатора равен 90o. Цилиндр и конусная часть инициатора имеют одинаковую высоту, равную удвоенному критическому диаметру ВВ инициатора. Диаметр цилиндра, опирающегося на меньшее основание усеченного конуса, равен критическому диаметру ВВ инициатора. Плотность ВВ конической части инициатора возрастает от центра к образующей конической поверхности. Изобретение позволяет увеличить скорость и, следовательно, пробивную способность кумулятивной струи заряда. 1 з.п.ф-лы, 2 ил.
|
Поиск патентов
Получить полное описание патента