Промышленная Сибирь Ярмарка Сибири Промышленность СФО Электронные торги НОУ-ХАУ Электронные магазины Карта сайта
 
Ника
Ника
 

Поиск патентов

Как искать?
Реферат
Название
Публикация
Регистрационный номер
Имя заявителя
Имя изобретателя
Имя патентообладателя

    





Оформить заказ и задать интересующие Вас вопросы Вы можете напрямую c 6-00 до 14-30 по московскому времени кроме сб, вс. whatsapp 8-950-950-9888

На данной странице представлена ознакомительная часть выбранного Вами патента

Для получения более подробной информации о патенте (полное описание, формула изобретения и т.д.) Вам необходимо сделать заказ. Нажмите на «Корзину»


СПОСОБ ФОРМИРОВАНИЯ ПЛЕНОК ФОТОННЫХ КРИСТАЛЛОВ (ФК) НА ПРОВОДЯЩИХ ПОДЛОЖКАХ

Номер публикации патента: 2371525

Вид документа: C2 
Страна публикации: RU 
Рег. номер заявки: 2007139206/15 
  Сделать заказПолучить полное описание патента

Редакция МПК: 
Основные коды МПК: C30B030/02   B82B003/00    
Аналоги изобретения: JP 2003002687 А, 08.01.2003. KR 20050006428 А, 17.01.2005. ПЛЕХАНОВ А.И. и др. Нанокристаллизация монокристаллических пленок опала и пленочных опаловых гетероструктур. - Российские нанотехнологии, 2006, 1-2, т.1, с.245-251. 

Имя заявителя: Петербургский институт ядерной физики им. Б.П. Константинова РАН (RU) 
Изобретатели: Григорьев Сергей Валентинович (RU)
Напольский Кирилл Сергеевич (RU)
Саполетова Нина Александровна (RU)
Елисеев Андрей Анатольевич (RU)
Лукашин Алексей Викторович (RU)
Третьяков Юрий Дмитриевич (RU)
Григорьева Наталья Анатольевна (RU) 
Патентообладатели: Петербургский институт ядерной физики им. Б.П. Константинова РАН (RU) 

Реферат


Изобретение относится к области получения пленок фотонных кристаллов. Формирование пленок фотонных кристаллов осуществляют путем осаждения монодисперсных микросфер коллоидных частиц из суспензии на расположенные вертикально в ней проводящие подложки, при этом в качестве монодисперсных микросфер используют коллоидные частицы из полистирола, полиметилметакрилата или оксида кремния, а осаждение осуществляют при температуре суспензии (60±3)°С при одновременной подаче к подложкам разности потенциалов 1 В. В качестве проводящих подложек могут быть использованы стекла с проводящим покрытием из индий-оловянного оксида (ITO), стекло с напыленной пленкой золота и др. Изобретение позволяет направленно получать однородные и высокоупорядоченные структуры фотонных кристаллов на больших площадях с высокой скоростью роста. 1 з.п. ф-лы, 6 ил.

Дирекция сайта "Промышленная Сибирь"
Россия, г.Омск, ул.Учебная, 199-Б, к.408А
Сайт открыт 01.11.2000
© 2000-2018 Промышленная Сибирь
Разработка дизайна сайта:
Дизайн-студия "RayStudio"