| 
			
					
			 На данной странице представлена ознакомительная часть выбранного Вами патента 
			
				Для получения более подробной информации о патенте (полное описание, формула изобретения и т.д.) Вам необходимо сделать заказ. Нажмите на «Корзину» 
			
			 
		   | МЕТОД ВЫРАЩИВАНИЯ НЕПОЛЯРНЫХ ЭПИТАКСИАЛЬНЫХ ГЕТЕРОСТРУКТУР НА ОСНОВЕ НИТРИДОВ ЭЛЕМЕНТОВ III ГРУППЫ |      |  
 
 Номер публикации патента: 2315135 |   |  
  
	
	 
	
| Редакция МПК:  | 7  |  | Основные коды МПК:  | C30B025/18   C30B029/38   H01L033/00     |  | Аналоги изобретения:  | WO 03089696 A1, 30.10.2003. RU 2233013 С2, 20.11.2004. JP 9221392 А, 26.08.1997. US 5290393 А, 01.03.1994. US 5993542 А, 30.11.1999. US 5909036 А, 01.06.1999.  |  
	 
	 
	
| Имя заявителя:  | Абрамов Владимир Семенович (RU)  |  | Изобретатели:  | Абрамов Владимир Семенович (RU) Сощин Наум Петрович (RU) Сушков Валерий Петрович (RU) Щербаков Николай Валентинович (RU) Аленков Владимир Владимирович (RU) Сахаров Сергей Александрович (RU) Горбылев Владимир Александрович (RU)  |  | Патентообладатели:  | Абрамов Владимир Семенович (RU)  |  
	 
	 
Реферат |   |  
 
 Изобретение относится к технологии изготовления полупроводниковых материалов и приборов методом газофазной эпитаксии из металлоорганических соединений, а именно к изготовлению гетероструктур на основе элементов III группы и приборов на их основе, таких как белые светодиоды, лазеры и т.д. Метод выращивания неполярных эпитаксиальных гетероструктур для белых светоизлучающих диодов на основе соединений и твердых растворов нитридов элементов III группы включает газофазное осаждение одного или более сл  
		 |