На данной странице представлена ознакомительная часть выбранного Вами патента

Для получения более подробной информации о патенте (полное описание, формула изобретения и т.д.) Вам необходимо сделать заказ. Нажмите на «Корзину»

Вернуться к списку

УСТРОЙСТВО ДЛЯ ОСАЖДЕНИЯ СЛОЕВ ИЗ ГАЗОВОЙ ФАЗЫ

Номер публикации патента: 2010043

Вид документа:  C1  Страна публикации:  RU  Рег. номер заявки:  5004735/26		Получить полное описание патента

Реферат

Относится к устройствам для газофазного наращивания эпитаксиальных слоев полупроводниковых соединений типа A3B5. Устройство содержит реактор вертикального типа. В верхней части реактора выполнены средства для ввода водорода и газовой смеси. Средство для ввода газовой смеси выполнено в виде перфорированного патрубка, размещенного по оси реактора и в его полости.

Вернуться к списку