На данной странице представлена ознакомительная часть выбранного Вами патента

Для получения более подробной информации о патенте (полное описание, формула изобретения и т.д.) Вам необходимо сделать заказ. Нажмите на «Корзину»

Вернуться к списку

УСТАНОВКА ДЛЯ ФОРМИРОВАНИЯ ДИЭЛЕКТРИЧЕСКОГО ПОКРЫТИЯ НА МЕТАЛЛИЧЕСКОЙ ЗАГОТОВКЕ

Номер публикации патента: 1503344

Вид документа:  A1  Страна публикации:  SU  Рег. номер заявки:  4358153		Получить полное описание патента

Реферат

Изобретение относится к электрохимии и может быть использовано для изготовления металлодиэлектрических (эмалированных) подложек (МД - подложек) методом электрофоретического осаждения диэлектрического покрытия. Цель изобретения - повышение качества диэлектрического покрытия на поверхности и торцах металлической заготовки больших размеров (более 60х48 мм), а также на стенках отверстий диаметром менее 1,5 мм. Для этого установка, содержащая ванну 1 с электродами 2, источник 3 электропитания, вольтметр 9, самопишущий прибор (миллиамперметр 8), подъемный механизм 6, датчик 5 веса покрытия, оснащается устройством 10 инфракрасного излучения, состоящим из двух частей, создающих встречные потоки. Устройство 10 инфракрасного излучения располагается так, что, сразу после окончания процесса осаждения покрытия заготовка 4 с помощью подъемного механизма 6, извлекающего ее из ванны 1 в вертикальном направлении, и за счет перемещения устройства 10 по горизонтальным направляющим размещается в зоне инфракрасного излучения. Температура 80-120<198>С, обеспечиваемая в зоне сушки, позволяет произвести просушку всей толщины покрытия за 20-30 с, что предотвращает сползание покрытия, утолщение слоя покрытия в нижней части подложки, исключает дефекты на стенках отверстий, возникающие при относительно длительном нахождении влажного покрытия в комнатных атмосферных условиях. Обеспечиваемый инфракрасным излучением режим сушки предотвращает создание кратеров на поверхности покрытия заготовки за счет слишком интенсивной поверхностной сушки. 2 ил.

Вернуться к списку