|
На данной странице представлена ознакомительная часть выбранного Вами патента
Для получения более подробной информации о патенте (полное описание, формула изобретения и т.д.) Вам необходимо сделать заказ. Нажмите на «Корзину»
| РАСТВОР И СПОСОБ ХИМИЧЕСКОГО ПОЛИРОВАНИЯ ПОВЕРХНОСТИ ИЗ НЕРЖАВЕЮЩЕЙ СТАЛИ |  |
Номер публикации патента: 2060302 |  |
| Редакция МПК: | 6 | | Основные коды МПК: | C23F003/00 | | Дополн. коды МПК: | C23F003/06 | | Аналоги изобретения: | Электрическое и химическое полирование металлов. - W.J.Мс.Ст.Теgart - Dunod, 1960, с.122. Патент США N 2662814, кл. C 23F 3/00, 1949. Патент США N 3709824, кл. C 23F 1/02, 1973. Патент Франции N 2608173, кл. C 23G 1/06, 1988. |
| Имя заявителя: | Солвей (BE) | | Изобретатели: | Марианн Рейнье[BE]
Франсуа Дюжардэн[BE]
Леопольд Димартинелли[BE] | | Патентообладатели: | Солвей (BE) | | Номер конвенционной заявки: | 9000212 | | Страна приоритета: | BE |
Реферат | |
Использование: для химического полирования поверхности нержавеющей стали. Сущность изобретения: раствор для химического полирования содержит соляную кислоту 0,5 - 5,0 моль, азотную кислоту 0,005 - 1,0 моль, фосфорную кислоту 0,005 - 1,0 моль, гидроксибензойную кислоту 0,001 - 5,0 г, хлорную кислоту или ее водорастворимую соль 0,0005 - 0,5 моль, абиетиновое соединение 0,005 - 1,0 г и воду до 1 л. В качестве гидроксибензойной кислоты раствор содержит салициловую или сульфосалициловую кислоту. В качестве абиетинового соединения - замещенный абиетамин с общей формулой
 ,
где R1 - абиетильный, гидроабиетильный или дигидроабиетильный радикал, X1 - радикал, содержащий по меньшей мере одну карбонильную группу, X2 - атом водорода или радикал, содержащий по меньщей мере одну карбонильную группу. Один из радикалов X1 и X2 являются радикалом с общей формулой - CH2 - R2, где R2 - алкильный остаток, линейный или циклический, замещенный или незамещенный, насыщенный или ненасыщенный, содержит по меньщей мере одну карбонильную группу. R2 выбирают среди ацетонильного, 2 - кетобутильного, 4 - метил - 2 - кето - 3 - пентильного, 4 - гидрокси - 4 метил - 2 - кетопентильного, 2 - кетоциклопентильного, 4 - гидрокси - 2 - кето - 3 - пентильного, 2 - кетоциклогексильного, 2,5 - дикетогексильного и 2 - фенил - 2 - кетоэтильного остатков. Способ химического полирования включает обработку поверхности вышеуказанным раствором при температуре 20 - 50oС. 2 с. и 5 з. п. ф-лы.
|
Поиск патентов
Получить полное описание патента