LIDONG W. et. al. Batch CVD process for depositing Pd activation layers. // J. Electrochemical Society. 2007, vol.154, issue 3, pp.D151-D155. RU 92014758 A, 27.12.1995. SU 289147 A, 26.01.1971. EP 0965656 A1, 22.12.1999. EP 0483782 A2, 06.05.1992.
Имя заявителя:
Учреждение Российской академии наук Институт неорганической химии им. А.В. Николаева Сибирского отделения РАН (ИНХ СО РАН) (RU)
Изобретатели:
Кучумов Борис Максимович (RU) Корецкая Татьяна Пантелеевна (RU) Игуменов Игорь Константинович (RU) Жаркова Галина Ивановна (RU) Себежко Владимир Николаевич (RU)
Патентообладатели:
Учреждение Российской академии наук Институт неорганической химии им. А.В. Николаева Сибирского отделения РАН (ИНХ СО РАН) (RU)
Реферат
Изобретение относится к способам нанесения покрытий и может быть использовано при изготовлении печатных плат. Способ включает помещение подложки в реактор, нагревание подложки и транспортирование паров прекурсора в зону реактора. Процесс ведут до образования на подложке металлической пленки необходимой толщины. При этом подложку нагревают до температуры 50-70°С, в зону реакции подают пары прекурсора с температурой 25-50°С в смеси с водородом и подвергают подложку ультрафиолетовому облучению в диапазоне длин волн 126-172 нм. Причем поток водорода подают со скоростью 0,3-4,0 л/ч, а пары прекурсора с помощью транспортного газа аргона подают со скоростью 2-4 л/ч. Технический результат - упрощение способа, расширение его функциональных возможностей, повышение качества покрытия. 3 з.п. ф-лы.
Поиск патентов
Получить полное описание патента