|
На данной странице представлена ознакомительная часть выбранного Вами патента
Для получения более подробной информации о патенте (полное описание, формула изобретения и т.д.) Вам необходимо сделать заказ. Нажмите на «Корзину»
| УСТРОЙСТВО ВАКУУМНОГО ОСАЖДЕНИЯ И СПОСОБ ПОЛУЧЕНИЯ ПЛЕНКИ ВАКУУМНЫМ ОСАЖДЕНИЕМ |  |
Номер публикации патента: 2332523 |  |
| Редакция МПК: | 7 | | Основные коды МПК: | C23C014/56 C23C016/54 | | Аналоги изобретения: | JP 05-279843 A, 26.10.1993. RU 2084556 C1, 20.07.1997. SU 1113424 A, 15.09.1984. JP 9176855 A, 08.07.1997. ЕР 0130444 А, 09.01.1985. JP 11158630 A, 15.06.1999. |
| Имя заявителя: | ТОППАН ПРИНТИНГ КО., ЛТД. (JP),ЭППЛАЙД МАТИРИЭЛС ГМБХ УНД КО.КГ (DE) | | Изобретатели: | САСАКИ Нобору (JP)
СУЗУКИ Хироси (JP)
КОИЗУМИ Фумитаке (JP)
ИМАЙ Нобухико (JP)
АРАЙ Кунимаса (JP)
КОНАГАЙ Хироюки (JP) | | Патентообладатели: | ТОППАН ПРИНТИНГ КО.
ЛТД. (JP)
ЭППЛАЙД МАТИРИЭЛС ГМБХ УНД КО.КГ (DE) |
Реферат | |
Изобретение относится к устройству и способу вакуумного осаждения для образования осажденных в вакууме пленок на несущей пленке и может найти использование в различных отраслях машиностроения. Устройство содержит подающий валик для подачи несущей пленки, подающий направляющий валик для направления несущей пленки в вакуум, покрывающий валик для прохождения вокруг него несущей пленки и осаждения на ней в вакууме слоя с образованием пленки с покрытием, приемный валик для наматывания на него пленки с
|
Поиск патентов
Получить полное описание патента