T.Zhang, K.S.Thomas Gan, P.Lee, R.V.Ramanujan and R.S.Rawat, Characteristics of FeCo nano-particles synthesized using plasma focus, J. Phys. D: Appl. Phys. 39, 2006, 2212-2219. RU 2161662 C2, 10.01.2001. RU 2086699 C1, 10.08.1997. RU 2094486 C1, 27.10.1997. SU 1552676 A3, 30.06.1994. EP 0860854 A, 26.08.1998. JP 2005307349 A, 04.11.2005. JP 60258465 A, 20.12.1985. US 5612099 A, 18.03.1997.
Имя заявителя:
ФЕДЕРАЛЬНОЕ ГОСУДАРСТВЕННОЕ УЧРЕЖДЕНИЕ РОССИЙСКИЙ НАУЧНЫЙ ЦЕНТР "Курчатовский институт" (RU)
Изобретатели:
Виноградов Валентин Петрович (RU) Крауз Вячеслав Иванович (RU) Мялтон Виктор Владимирович (RU) Смирнов Валентин Пантелеймонович (RU) Химченко Леонид Николаевич (RU)
Патентообладатели:
ФЕДЕРАЛЬНОЕ ГОСУДАРСТВЕННОЕ УЧРЕЖДЕНИЕ РОССИЙСКИЙ НАУЧНЫЙ ЦЕНТР "Курчатовский институт" (RU)
Реферат
Изобретение относится к плазменному способу и устройству получения нанопокрытий, в частности пленок из окислов, карбидов и других соединений, и может применяться в радиоэлектронной, авиационной, энергетике и других отраслях промышленности. Изобретение позволит повысить энергию наносимых частиц материала нанопокрытия и улучшить адгезию покрытия с подложкой, расширить компонентный состав покрытия. Способ состоит в плазменном распылении наносимого вещества на подложку в вакуумной камере. На подложку осаждают наночастицы, полученные при испарении мишени в плазме импульсного сильноточного разряда, пинчующейся под действием собственного магнитного поля. Мишень формируют из свободно падающего мелкодисперсного порошка, который подают в зону испарения из резервуара, расположенного вне вакуумной камеры. Устройство состоит из вакуумной камеры, анода и катода, разделенных изолятором, источника питания, держателя подложек. Вакуумная камера выполнена симметричной относительно вертикальной оси, а вне вакуумной камеры по ее оси установлен резервуар с мелкодисперсным порошком, соединенный с вакуумной камерой пролетной трубой, в верхней части которой расположен электромагнитный затвор, а в нижней - вакуумный затвор. 2 н. и 7 з.п. ф-лы., 11 ил., 1 табл.
Поиск патентов
Получить полное описание патента