|
На данной странице представлена ознакомительная часть выбранного Вами патента
Для получения более подробной информации о патенте (полное описание, формула изобретения и т.д.) Вам необходимо сделать заказ. Нажмите на «Корзину»
| СПОСОБ ИЗГОТОВЛЕНИЯ МИКРОПРОФИЛЬНОЙ ПЛОСКОЙ ПОВЕРХНОСТИ |  |
Номер публикации патента: 2120493 |  |
| Редакция МПК: | 6 | | Основные коды МПК: | C23C014/04 | | Аналоги изобретения: | Данилин Б.С. Вакуумное нанесение тонких пленок. - М.: Энергия, 1967, с. 63. SU 187854 A, 20.10.66. US 4643912 A, 17.02.87. SU 351931 A, 21.09.72. |
| Имя заявителя: | Российский федеральный ядерный центр - Всероссийский научно-исследовательский институт экспериментальной физики | | Изобретатели: | Изгородин В.М.
Пинегин А.В. | | Патентообладатели: | Российский федеральный ядерный центр - Всероссийский научно-исследовательский институт экспериментальной физики
Министерство Российской Федерации по атомной энерги |
Реферат | |
Способ изготовления микропрофильной плоской поверхности, включающий нанесение материала на подложку вакуумным напылением через механическую маску и отличающийся тем, что подложку и испаритель размещают относительно друг друга в соответствии с соотношением d = cl0/2a, где d - расстояние от маски до подложки; l0 - расстояние от маски до испарителя; 2a - ширина испарителя в направлении, перпендикулярном полосам маски; c - ширина чередующихся прорезей маски и непрозрачных полосок между ними. Способ позволяет изготовить профиль поверхности с минимальным отличием от косинусоидального, что упрощает теоретическое описание процессов развития неустойчивостей, моделируемых в экспериментальных исследованиях с использованием мощных лазеров в области управляемого термоядерного синтеза. 2 з.п. ф-лы, 9 ил.
|
Поиск патентов
Получить полное описание патента