|
На данной странице представлена ознакомительная часть выбранного Вами патента
Для получения более подробной информации о патенте (полное описание, формула изобретения и т.д.) Вам необходимо сделать заказ. Нажмите на «Корзину»
| АНОДНЫЙ УЗЕЛ УСТРОЙСТВА ДЛЯ ОБРАБОТКИ ИЗДЕЛИЙ С ИСПОЛЬЗОВАНИЕМ ПЛАЗМЫ ГАЗОВОГО РАЗРЯДА |  |
Номер публикации патента: 2058426 |  |
| Редакция МПК: | 6 | | Основные коды МПК: | C23C014/32 | | Аналоги изобретения: | Авторское свидетельство СССР N 1437412, кл. C 23C 14/36, 1985. Физика тонких пленок /Под ред.Г.Хасса и Р.Э.Туна. М.: Мир, 19683, т.Ш. с.87, ф.9. |
| Имя заявителя: | Научно-производственное предприятие "Новотех" | | Изобретатели: | Саблев Л.П.
Григорьев С.Н. | | Патентообладатели: | Научно-производственное предприятие "Новотех" |
Реферат | |
Использование: в машиностроении при обработке изделий в вакууме, в частности в установках для нагрева и комплексной обработки изделий в газовой ступени плазмы двухступенчатого вакуумно-дугового разряда. Сущность изобретения: анод выполнен из электроизолированных секций, соединенных через индивидуальные токоподводы с выводами фаз многофазного источника переменного тока. Общая точка соединенных звездой фаз источника соединена с землей и положительным полюсом источника постоянного тока. Отрицательный полюс последнего соединен с катодом разряда. Это повышает однородность обработки за счет обеспечения возможности изменения положения области плазмы с повышенной плотностью по заданной траектории. 1 з.п. ф-лы, 2 ил.
|
Поиск патентов
Получить полное описание патента