|
На данной странице представлена ознакомительная часть выбранного Вами патента
Для получения более подробной информации о патенте (полное описание, формула изобретения и т.д.) Вам необходимо сделать заказ. Нажмите на «Корзину»
| ВАКУУМНО - ДУГОВОЕ УСТРОЙСТВО |  |
Номер публикации патента: 2058423 |  |
| Редакция МПК: | 6 | | Основные коды МПК: | C23C014/24 | | Аналоги изобретения: | Дороднов А.М., Петросов В.А. О физических принципах и типах вакуумных технологических плазменных устройств. - ЖТФ, 1981, т. 51, N 3, с. 504 - 524. Егоров В.Д. и др. Фазовый состав плазмы, генерируемой стационарной вакуумной дугой. - Физика и химия обработки материалов, 1992, N 6, с. 69 - 75. |
| Имя заявителя: | Санкт-Петербургский государственный электротехнический университет | | Изобретатели: | Абрамов И.С.
Быстров Ю.А.
Лисенков А.А. | | Патентообладатели: | Санкт-Петербургский государственный электротехнический университет |
Реферат | |
Использование: для нанесения покрытий высокого качества в производстве электронных приборов, машиностроении, товаров народного потребления. Сущность вакуумно-дуговое устройство содержит аттенюатор, расположенный в его рабочем объеме на пути потока между испарителем и подложкодержателем. Аттенюатор состоит из набора плоско-параллельных пластин, плоскости которых параллельны оси устройства. Геометрические размеры аттенюатора с коэффициентом ослабления плазменного потока связаны следующим образом:
L/H = Vпп/Vis·[ln·η] , где l - ширина пластин аттенюатора; h - расстояние между пластинами; Vпп - скорость плазменного потока; Vis - скорость ионного звука;
η - коэффициент прозрачности аттенюатора. 2 ил., 1 табл.
|
Поиск патентов
Получить полное описание патента