ТОХОКУ ЮНИВЕРСИТИ (JP) ТОКИО ЭЛЕКТРОН ЛИМИТЕД (JP)
Приоритетные данные:
07.10.2005 JP 2005-295181
Реферат
Изобретение относится к аппарату магнетронного распыления для обработки подложки (варианты), установке магнетронного распыления и способу распыления для формирования пленки из материала мишени. Изобретение обеспечивает повышение скорости формирования пленки посредством увеличения плотности эрозии на мишени при каждом перемещении и продление срока службы мишени путем достижения однородного расходования мишени посредством перемещения области эрозии со временем. Пластинчатые магниты (3) установлены вокруг колоннообразного вращающегося вала (2). При вращении колоннообразного вращающегося вала (2) на мишени (1) формируется область эрозии высокой плотности, чтобы увеличить скорость формирования пленки. Так как эта область эрозии перемещается вместе с вращением колоннообразного вращающегося вала (2), мишень (1) расходуется однородно. 6 н. и 30 з.п. ф-лы, 26 ил.