Изобретение относится к области производства распыляемых металлических мишеней для микроэлектроники. Способ производства распыляемой мишени из сплава на основе высокочистого переходного металла из ряда: титан, ванадий, кобальт включает последовательное глубокое вакуумное рафинирование электронно-лучевым капельным переплавом металлокерамической заготовки высокой чистоты с получением слитка высокочистого переходного металла, формирование из него дуговым вакуумным переплавом с одновременным легированием кремнием в пределах 0,0005-0,15 м.% в вертикальном кристаллизаторе при интенсивном электромагнитном перемешивании затвердевающего расплава заготовки мишени в виде слитка и механическую обработку полученной заготовки. Распыляемая мишень из высокочистого сплава на основе переходного металла из ряда: титан, ванадий, кобальт содержит переходный металл и кремний при следующем соотношении указанных компонентов, м.%: кремний - 0,005-1,0 и металл из ряда: титан, ванадий, кобальт - остальное. Технический результат - повышение качества и надежности барьерных и проводящих пленок дисилицидов тугоплавких металлов. 3 н.п. ф-лы, 1 табл.
Поиск патентов
Получить полное описание патента