|
На данной странице представлена ознакомительная часть выбранного Вами патента
Для получения более подробной информации о патенте (полное описание, формула изобретения и т.д.) Вам необходимо сделать заказ. Нажмите на «Корзину»
| СПОСОБ СБОРА РТУТИ В ТЕХНОЛОГИЧЕСКОЙ КАМЕРЕ УСТАНОВКИ МОЛЕКУЛЯРНО - ЛУЧЕВОЙ ЭПИТАКСИИ И УСТАНОВКА ДЛЯ ЕГО ОСУЩЕСТВЛЕНИЯ |  |
Номер публикации патента: 2071985 |  |
| Редакция МПК: | 6 | | Основные коды МПК: | C22B043/00 | | Аналоги изобретения: | Harris et al. Characterization study of HoTe-CdTe superlattices by means of TEM and infrared photoluminescence //Appl. Phys. Lett., 1986, v. 48, N 6, p. 396-398. |
| Имя заявителя: | Институт физики полупроводников СО РАН | | Изобретатели: | Блинов В.В.
Дворецкий С.А.
Сидоров Ю.Г. | | Патентообладатели: | Институт физики полупроводников СО РАН
Конструкторско-технологический институт прикладной микроэлектроники СО РА |
Реферат | |
Использование: технология получения тонкопленочных многослойных покрытий. Сущность изобретения: в первом контуре сбора ртути при температурах, близких к температуре кипения ртути (357oС), расплавленная ртуть через воронку 16, трубопровод 31 и открытый вентиль 30 поступает в питатель 25, а десорбировавшие со стенок экрана 8 газы откачиваются откачными средствами 2. Периодическое размораживание экрана 8, установленного коаксиально внутри камеры 1, приводит к постепенному израсходованию ртути, т.к. она вымораживается на экране 9. Тогда используют второй контур сбора ртути. При этом ртуть конденсируется в жидком состоянии на стенках экрана 40 и выводится в питатель 25 через отверстие 45 и вентиль 48, а газы, которые выделяются из ртути и десорбируют со стенок установки, откачивают откачными средствами 38, защищенными от попадания в них ртути экраном 46. Если собранная в дополнительном контуре ртуть недостаточно очищена, ее можно собрать в испарителе 52. Затем ртуть нагревают, пары ртути через вентиль 54 по трубопроводу 53 поступают в экран 39, конденсируются на его стенках, а газы откачивают откачными средствами 38. В случае ненужности очистки ртуть сливают через вентиль 55 в питатель 25. Положительный эффект: увеличение производительности и надежности установки, уменьшение энергоемкости в 3-5 раз; исключение загрязнения ртути газами и летучими примесями и обеспечение экологически чистого производства. 2 с. и 3 з.п. ф-лы, 2 ил.
|
Поиск патентов
Получить полное описание патента