|
На данной странице представлена ознакомительная часть выбранного Вами патента
Для получения более подробной информации о патенте (полное описание, формула изобретения и т.д.) Вам необходимо сделать заказ. Нажмите на «Корзину»
| СПОСОБ РАФИНИРОВАНИЯ ВЫСОКОУГЛЕРОДИСТОГО РАСПЛАВА МЕТАЛЛА |  |
Номер публикации патента: 2150515 |  |
| Редакция МПК: | 7 | | Основные коды МПК: | C21C005/56 C21C007/072 | | Аналоги изобретения: | КУДРИН В.А. Металлургия стали. - М.: Металлургия, 1981, с.234 - 246. SU 115070, 30.01.1959. SU 662595, 25.05.1979. SU 960268, 23.09.1982. RU 2071977 C1, 20.01.1997. RU 2103378 C1, 27.01.1998. JP 4-18004 B4, 26.03.1992. US 3565605, 23.02.1971. DE 1533891, 08.04.1971. JP 1-108310 A, 25.04.1989. |
| Имя заявителя: | Московский государственный институт стали и сплавов (технологический университет) | | Изобретатели: | Стомахин А.Я.
Роменец В.А.
Мизин В.Г.
Еланский Д.Г.
Козлов А.Н. | | Патентообладатели: | Московский государственный институт стали и сплавов (технологический университет) |
Реферат | |
Изобретение относится к металлургии, конкретнее к рафинированию высокоуглеродистых расплавов металлов при производстве стали из, например, жидкого чугуна. Техническим результатом является снижение капитальных затрат на осуществление процесса рафинирования и, как следствие, снижение себестоимости получаемого металла. Способ рафинирования включает подачу кислородсодержащего газа в количестве, обеспечивающем вдувание 80 - 100% всего кислорода, необходимого для рафинирования высокоуглеродистого расплава металла, в процессе заполнения расплавом рафинировочной емкости. После заполнения рафинировочной емкости расплавом в пределах 0,5 - 0,9 его высоты расход кислорода в кислородсодержащем газе уменьшают до 0,3 - 0,5 от первоначального значения. В качестве расплава используют чугун, которым заполняют поочередно подставляемые под струю расплавленного металла ковши для обеспечения непрерывного рафинирования. Ковши оборудованы фурмами, расположенными под расплавом металла. 4 з.п.ф-лы, 1 табл.
|
Поиск патентов
Получить полное описание патента