R.KIBAR et al, Effect of thermal treatment on linear optical properties of Cu nanoclusters, Phisica B, 2009, v.404, p.p.1056-110. RU 2319063 C2, 10.03.2008. RU 2319971 C2, 20.03.2008. BY 7700 C1, 28.02.2006. EP 1304774 B1, 03.05.2006. ГАНЕЕВ Р.А. и др. Нелинейное поглощение силикатных стекол, допированных наночастицами меди, в видимом диапазонеспектра, Квантовая электроника, 2003, т.33, 12, с.1081-1084. ЗАЦЕПИН Д.А. и др. Рентгеновская эмиссионная и фотолюминесцентная спектрография наноструктурированного диоксида кремния с имплантированными ионами меди, Физика твердого тела, 2008, т.50, вып.12, с.2225-2229. BINITA GHOSH et al, Linear and nonlinear optical absorption in copper nanoclucter-glass composites, Mat. Lett., 2007, v.61, p.p.4512-4515.
Имя заявителя:
Федеральное государственное автономное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Уральский федеральный университет имени первого Президента России Б.Н. Ельцина" (RU)
Изобретатели:
Кортов Всеволод Семенович (RU) Зацепин Анатолий Федорович (RU) Гаврилов Николай Васильевич (RU)
Патентообладатели:
Федеральное государственное автономное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Уральский федеральный университет имени первого Президента России Б.Н. Ельцина" (RU)
Реферат
Изобретение может быть использовано при создании светоизлучающих и светосигнальных устройств, например плазменных дисплейных панелей, световых матричных индикаторов, светофоров. Ионы меди имплантируют в кварцевое стекло при дозе облучения 5·1015÷2·1017 см-2 с энергией ионов 35÷45 кэВ. Затем люминофор термообрабатывают в воздушной атмосфере при температуре 750÷900°С в течение 1÷2 ч, после чего осуществляют обработку люминофора излучением ультрафиолетового диапазона с длиной волны 240÷260 нм. В качестве источника излучения ультрафиолетового диапазона могут быть использованы ртутная лампа сверхвысокого давления, дейтериевая лампа низкого давления или эксимерный KrF лазер. На кривой 1 изображен спектр люминесценции люминофора, обработанного с использованием эксимерного KrF лазера, на кривой 2 - с использованием дейтериевой лампы низкого давления, на кривой 3 - термообработанного люминофора без обработки излучением ультрафиолетового диапазона. Увеличивается интенсивность люминесценции и обеспечивается возможность управления спектром люминесценции. 3 з.п. ф-лы, 1 ил., 1 табл., 6 пр.
Поиск патентов
Получить полное описание патента