На данной странице представлена ознакомительная часть выбранного Вами патента
Для получения более подробной информации о патенте (полное описание, формула изобретения и т.д.) Вам необходимо сделать заказ. Нажмите на «Корзину»
НЕСИММЕТРИЧНЫЕ АРИЛФОСФИТЫ, ПОЛИМЕРНАЯ КОМПОЗИЦИЯ И СПОСОБ ЕЕ ПОЛУЧЕНИЯ | |
Номер публикации патента: 2071478 | |
Редакция МПК: | 6 | Основные коды МПК: | C07F009/145 C08L023/00 C08K005/526 | Аналоги изобретения: | 1. Патент США N 444929, кл. C 08 K 5/34, 1989. 2. Патент США N 4348308, кл. C 08 K 5/09, 1982. 3. Патент США N 4079103, кл. C 07 F 9/20, 1978. |
Имя заявителя: | Циба Гейги АГ (CH) | Изобретатели: | Рита Питтелуд[CH] Петер Хофманн[CH] Рудольф Маул[DE] Фолькер Шенк[DE] Эдуард Трокслер[CH] Хорст Цинке[DE] | Патентообладатели: | Циба Гейги АГ (CH) | Номер конвенционной заявки: | 913/91 | Страна приоритета: | CH |
Реферат | |
Соединения формулы I: (I) где х = 1, 2 или 3 и если х = 1, R' означает С1 - C30-алкил, замещенный С1 - C18 алкил с заместителями из ряда: галоген, -COOR2, -CN, -NR3R4 или -CONR3R4; C2 - C18-алкил, прерванный группами -NR5-, -O-, или -S-; C3 - C18-алкенил; С5 - C12-циклоалкил; фенил-С1 - C4-алкил; незамещенный фенил; замещенный фенил с заместителями из ряда: галоген, фенил-C1 - C4-алкил и/или С1 - C4-алкокси; нафтил; группу формулы: или R2, R3, R4, R5 означают, независимо друг от друга, водород С1 - C18-алкил, С5 - C12-циклоалкил или фенил -С1 - C4-алкил; R6 - означает водород, метил, аллил или бензил; R7 означает водород или -OR9; R8 - означает водород или метил; R9 - означает водород или С1 - C30-алкил; R10 и R11 означают, независимо друг от друга, водород или С1 - C8-алкил; и n = 3 - 6; при условии, что R' не представляет фенильную группу, которая является замещенной по обеим орто-позициям к С-атому, связанному с О-атомом; если х = 2; R' означает С2 - C18-алкилен; С2 - C18 -алкилен, прерванный группами -NR5, -O- или -S-; или группу формулы если х = 3, R' означает С4 - C12-алкантриил или группу , где м = 1 - 4; пригодные в качестве стабилизаторов для органических материалов, чувствительных к термической, окислительной и/или индуцированной светом деструкции /разложению/. 5 табл.
|