US 5135775 А, 04.08.1992. RU 2030807 C1, 10.03.1995. SU 1110212 A1, 07.03.1987. EP 0149408 A2, 24.07.1985. US 2003064198 A1, 03.04.2003. WO 01/82355 A2, 01.11.2001.
Изобретение относится к способу очистки подложки и к нанесению на нее покрытий. Техническим результатом изобретения является обеспечение эффективности очистки подложки. Способ получения покрытия на стеклянной подложке включает в себя процесс непрерывной вакуумной очистки подложки, включающий следующие операции: выбирают вещество с низкой эффективностью распыления и химически активное по отношению к загрязнениям; с помощью, по меньшей мере, одного линейного источника ионов, генерирующего коллимированный пучок ионов, генерируют плазму из газовой смеси, содержащей преимущественно это вещество с низкой эффективностью распыления, в частности, на основе кислорода; подвергают, по меньшей мере, одну часть поверхности упомянутой подложки, необязательно связанную со слоем, воздействию упомянутой плазмы так, что упомянутое ионизированное вещество удаляет, по меньшей мере, частично за счет химической реакции, загрязнения, возможно адсорбированные или находящиеся на упомянутой части поверхности. После вакуумной очистки подложки следует, без прерывания вакуума, по меньшей мере, одна фаза вакуумного осаждения, по меньшей мере, одного тонкого слоя на, по меньшей мере, одну часть поверхности упомянутой подложки. 8 н. и 24 з.п. ф-лы, 2 табл., 1 ил.
Поиск патентов
Получить полное описание патента