|
На данной странице представлена ознакомительная часть выбранного Вами патента
Для получения более подробной информации о патенте (полное описание, формула изобретения и т.д.) Вам необходимо сделать заказ. Нажмите на «Корзину»
| СПОСОБ ПРИГОТОВЛЕНИЯ НЕГАТИВНОГО СЕЛЕКТИВНОГО ТРАВИТЕЛЯ ДЛЯ РЕЗИСТНЫХ СЛОЕВ ХАЛЬКОГЕНИДНОГО СТЕКЛА As2S3 |  |
Номер публикации патента: 2165902 |  |
| Редакция МПК: | 7 | | Основные коды МПК: | C03C015/00 C03C023/00 | | Аналоги изобретения: | RU 2008285 С1, 28.02.1994. SU 914526 А, 23.03.1982. SU 1039908 А, 07.09.1983. US 5468346 А, 21.11.1995. |
| Имя заявителя: | Институт физики полупроводников Национальной Академии наук Украины (UA) | | Изобретатели: | Венгер Евгений Федорович (UA)
Костюкевич Сергей Александрович (UA)
Шепелявый Петр Евгеньевич (UA)
Гольцов Юрий Геннадиевич (UA)
Бородин Юрий Александрович (UA)
Крючин Андрей Андреевич (UA)
Петров Вячеслав Васильевич (UA) | | Патентообладатели: | Институт физики полупроводников Национальной Академии наук Украины (UA) | | Номер конвенционной заявки: | 99074336 | | Страна приоритета: | UA |
Реферат | |
Способ приготовления негативного селективного травителя для резистных слоев халькогенидного стекла As2S3 относится к областям регистрации информации и может быть использован в оптотехнике, голографии, электронной технике, полиграфии. Способ заключается в смешивании трех органических реагентов в соотношении, выбранном из следующих концентрационных интервалов, об.%: этилендиамин 8-12, ацетон 55-70, диметилсульфоксид остальное. При их смешивании происходит химическое взаимодействие, которое приводит к образованию новых соединений со сложной структурой, которые характеризуются высокими константами устойчивости. Поскольку это взаимодействие протекает очень медленно, то для окончательного формирования селективного травителя со стабильными свойствами необходимо выдержать свежеприготовленную смесь не менее 24 суток при комнатной температуре. Технический результат изобретения - повышение селективности и качества травления поверхности. 3 ил., 3 табл.
|
Поиск патентов
Получить полное описание патента