Петров Георгий Николаевич (RU) Прохоров Александр Кириллович (RU) Мироевский Петр Равильевич (RU) Максимов Константин Владимирович (RU)
Патентообладатели:
Закрытое Акционерное Общество "ЭЛЛИНА-НТ" (RU)
Реферат
Изобретение относится к технологии получения высокочистого трихлорсилана, применяемого в качестве источника кремния в технологиях микроэлектроники и наноэлектроники. Способ включает взаимодействие тетрахлорида кремния с техническим кремнием и хлористым водородом с последующим разделением смеси хлорсиланов и рециркуляцией непрореагировавшего тетрахлорида кремния, при этом процесс синтеза трихлорсилана ведут в две стадии: на первой стадии в закрытом реакторе технический кремний, имеющий размер 5-10 мм, подвергают высокогомогенному активному наноизмельчению до размера частиц от 1000 до 50 нм в среде высокочистого тетрахлорида кремния при температуре от 260 К до 300 К до образования газообразного дихлорида кремния, в реакторе второй стадии осуществляют взаимодействие дихлорида кремния с хлористым водородом при температуре от 160 К до 300 К с образованием высокочистого трихлорсилана. Предлагаемый способ отличается высокой производительностью, способностью тонко регулировать рабочие процессы, тем самым влиять на количество и качество получаемого продукта, низкими энергетическими затратами рабочих процессов, экологической чистотой рабочих процессов и низкой металлоемкостью технологического оборудования, реализующего новый технологический процесс, обеспечивая заданную чистоту получаемого трихлорсилана.