WO 9931013 A1, 24.06.1999. JP 63-074909 A, 05.04.1988. RU 2222649 C2, 27.01.2004. RU 2158324 C1, 27.10.2000. US 4724160 A, 09.02.1988.
Имя заявителя:
Государственное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Томский политехнический университет" (RU)
Изобретатели:
Лопатин Владимир Васильевич (RU) Иванов Никита Александрович (RU) Солдатов Алексей Иванович (RU) Павлова Марина Леонидовна (RU)
Патентообладатели:
Государственное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Томский политехнический университет" (RU)
Реферат
Изобретение может быть использовано в производстве полупроводниковых материалов, солнечных элементов и микроэлектронике. Кремний осаждают на предварительно нагретые высокочастотным током подложки из чистого кремния. Изобретение позволяет получать кремний высокой чистоты. 1 з.п. ф-лы, 2 ил.