US 4684513 А, 04.08.1987. RU 2222649 С2, 27.01.2004. RU 2155158 C1, 27.08.2000. DE 3842099 A1, 22.06.1989. ФАЛЬКЕВИЧ Э.С. Технология полупроводникового кремния. - М.: Металлургия, 1992, с.133-137, 213-217, 242-247.
Имя заявителя:
Дегусса АГ (DE)
Изобретатели:
ПЕПКЕН Тим (DE) ЗОННЕНШАЙН Раймунд (DE)
Патентообладатели:
Дегусса АГ (DE)
Приоритетные данные:
02.03.2004 DE 102004010055.1
Реферат
Изобретение может быть использовано в химической и электронной промышленности. Кремний высокой чистоты получают термическим разложением силансодержащей смеси в газовой фазе с осаждением компактного слоя кремния. Используемая газовая смесь содержит моносилан, монохлоросилан и, если желательно, другие силаны. Предложенное изобретение позволяет получить высокочистый кремний при снижении образования тонкодисперсной пыли. 2 н. и 10 з.п. ф-лы, 1 табл.