Поиск патентов
Оформить заказ и задать интересующие Вас вопросы Вы можете напрямую c 6-00 до 14-30 по московскому времени кроме сб, вс. whatsapp 8-950-950-9888
На данной странице представлена ознакомительная часть выбранного Вами патента
Для получения более подробной информации о патенте (полное описание, формула изобретения и т.д.) Вам необходимо сделать заказ. Нажмите на «Корзину»
СПОСОБ ПОЛУЧЕНИЯ ТОНКИХ СЛОЕВ СИЛИКОНА, ТОНКИЙ СИЛИКОН И ЕГО ПРИМЕНЕНИЕ
Номер публикации патента: 2426756
Редакция МПК: 6 Основные коды МПК: C09D001/00 C08J005/18 B32B025/04 B32B025/20 Аналоги изобретения: RU 2000120318 A, 10.09.2002. SU 950738 A1, 15.08.1982. Химическая энциклопедия, т.4. - М.: БРЭ, 1995, с.7, 8.
Имя заявителя: ХУТАМАКИ ФОРХХАЙМ ЦВАЙГНИДЕРЛАССУНГ ДЕР ХУТАМАКИ ДОЙЧЛАНД ГМБХ УНД КО.КГ (DE) Изобретатели: МЮЛЛЕР Йозеф (DE) ГЮНТЕР Вальтер (DE) БАУЭР Михель (DE) ШТАРК Курт (DE) Патентообладатели: ХУТАМАКИ ФОРХХАЙМ ЦВАЙГНИДЕРЛАССУНГ ДЕР ХУТАМАКИ ДОЙЧЛАНД ГМБХ УНД КО.КГ (DE) Приоритетные данные: 26.11.2004 DE 102004057382.4
Реферат
Способ получения тонких слоев экструдируемого силикона, причем силиконовый слой экструдируют. При этом силиконовый слой может быть экструдирован на слой носителя или силиконовый слой и слой носителя экструдируют вместе из сопла экструдера. Способ позволяет получать тонкие слои силикона в одну стадию. 3 н. и 37 з.п. ф-лы, 3 ил.