WO 0224972 A1, 28.03.2002. WO 0022184 A1, 20.04.2000. WO 9913127 A1, 18.03.1999. US 5478650 A, 26.12.1995. US 2005036190 A1, 17.02.2005. RU 2242532 C1, 20.12.2004. RU 2205893 C2, 10.06.2003.
Изобретение относится к способу лазерной абляции для нанесения покрытия на изделие, имеющее одну или более поверхностей, и к изделию с покрытием. Покрытие на изделии, служащем подложкой, формируют путем лазерной абляции мишени с облучением мишени пучком импульсного лазера для холодной обработки с получением высококачественной плазмы, сканирования мишени пучком импульсного лазера для холодной обработки и образования из высококачественной плазмы покрытия, содержащего менее одного микроотверстия на 1 мм2, на поверхности изделия таким образом, что шероховатость поверхности покрытия составляет ±100 нм по результатам измерений на участке 1 мкм2 с помощью атомно-силового микроскопа (АСМ). Частота повторения импульсов импульсного лазера для холодной обработки составляет 1 МГц. В предпочтительном варианте формируемая на изделии поверхность свободна от микронных частиц и фактически представляет собой поверхность, соответствующую нанотехнологии, размеры отдельных частиц на которой не превышают 25 нм. Изобретение позволяет получать высококачественные покрытия из различных материалов с различными свойствами на различного вида изделия. 2 н. и 18 з.п. ф-лы, 15 ил.
Поиск патентов
Получить полное описание патента