|
На данной странице представлена ознакомительная часть выбранного Вами патента
Для получения более подробной информации о патенте (полное описание, формула изобретения и т.д.) Вам необходимо сделать заказ. Нажмите на «Корзину»
| СПОСОБ ДЛЯ ОЧИСТКИ ПОВЕРХНОСТЕЙ ОТ РАЗЛИЧНОГО РОДА ОТЛОЖЕНИЙ И УСТРОЙСТВО ДЛЯ ЕГО ОСУЩЕСТВЛЕНИЯ |  |
Номер публикации патента: 2153403 |  |
| Редакция МПК: | 7 | | Основные коды МПК: | B08B007/02 | | Аналоги изобретения: | SU 1736641 A1, 30.05.1992. SU ТУ 16-441013-85. SU 1761312 A1, 15.09.1992. WO 93/01894 A1, 04.02.1993. US 4977707 A, 18.12.1990. |
| Имя заявителя: | Общество с ограниченной ответственностью Научно-производственное предприятие "МИТЭК" (UA) | | Изобретатели: | Борткевич Сергей Павлович (UA)
Гордиенко Вячеслав Михайлович (UA)
Иванов Владимир Константинович (UA)
Матвиенко Олег Владимирович (UA) | | Патентообладатели: | Общество с ограниченной ответственностью Научно-производственное предприятие "МИТЭК" (UA) | | Номер конвенционной заявки: | 97126328 | | Страна приоритета: | UA |
Реферат | |
Изобретение относится к области очистки поверхностей конструкций от различного рода отложений и может применяться при разгрузке сыпучих грузов из емкостей (бункеров, вагонов и т.п.) при большой массе налипшего материала, высокой прочности адгезии и большой скорости релаксации, характерной для отложений с пластичной и рыхлой структурой. Очищаемую поверхность подвергают действию локальной упругой деформации одиночными механическими импульсами с амплитудой колебаний, не превышающей значения, при котором механические напряжения в очищаемой поверхности достигают предела усталости или предела циклической прочности; импульсы формируют с пологим передним фронтом длительностью от 1/2 периода свободных колебаний очищаемой поверхности в воздухе до 1/2 периода свободных колебаний очищаемой поверхности в материале отложения и крутым задним фронтом длительностью, по крайней мере на порядок меньшей 1/2 периода свободных колебаний очищаемой поверхности в воздухе. Устройство для очистки поверхности от отложений включает источник высоковольтного постоянного напряжения и разрядный контур, содержащий последовательно включенные накопительный конденсатор, зашунтированный диодом, катод которого подключен к положительному выводу накопительного конденсатора, коммутатор, плоский индуктор и имеющий возможность свободно перемещаться относительно индуктора якорь, выполненный из высокопроводящего материала, жестко закрепленный на очищаемой поверхности с противоположной от отложений стороны с зазором относительно индуктора. В изобретении обеспечивается повышение эффективности очистки поверхности при большой массе, высокой скорости релаксации и прочности адгезии налипшего материала. 2 с. и 2 з.п. ф-лы, 4 ил.
|
Поиск патентов
Получить полное описание патента