|
На данной странице представлена ознакомительная часть выбранного Вами патента
Для получения более подробной информации о патенте (полное описание, формула изобретения и т.д.) Вам необходимо сделать заказ. Нажмите на «Корзину»
| СПОСОБ ПЛАЗМЕННОЙ ТЕРМИЧЕСКОЙ ОБРАБОТКИ ИЗДЕЛИЙ И УСТРОЙСТВО ДЛЯ ЕГО ОСУЩЕСТВЛЕНИЯ |  |
Номер публикации патента: 2121514 |  |
| Редакция МПК: | 6 | | Основные коды МПК: | C21D001/09 | | Аналоги изобретения: | SU 1539215 A, 30.01.90. SU 1628539 A, 18.04.89. SU 1668418 A, 07.08.91. SU 1695704 A, 24.12.92. SU 974613 A, 15.11.82. US 3584184 A, 08.06.71. |
| Имя заявителя: | Лыков Алексей Михайлович | | Изобретатели: | Лыков А.М.
Матвеев Ю.И. | | Патентообладатели: | Лыков Алексей Михайлович
Матвеев Юрий Иванови |
Реферат | |
Изобретение относится к области плазменной термической обработки изделий сложной формы, преимущественно металлических. Сущность: в способе плазменной термической обработки изделий, включающем нагрев поверхности плазменной дугой, создаваемой анодом и катодом, направленной под углом к плоскости обработки, размещение анодного пятна на аноде и воздействие на электрическую дугу постоянным магнитным полем, нагрев поверхности осуществляют электрической дугой, создаваемой вращающимся охлаждаемым анодом и охлаждаемым катодом с анодным пятном, совершающим перемещение по аноду над поверхностью в прямом и обратном направлениях с амплитудой колебания не более 250 мм под воздействием одного или нескольких переменных магнитных полей, расположенных по ходу движения анодного пятна, создаваемых электромагнитами, плазменную дугу при этом отжимают от поверхности изделия постоянными магнитными полями на расстояние не менее 3 мм, анодное пятно размещают на аноде на расстоянии 1,0-25,0 мм от поверхности изделия, перемещаемого относительно дуги со скоростью 0,01-25,0 см/с с поддержанием тока плазменной дуги 50-600 А, прич м перемещение анодного пятна осуществляют с изменением вектора направления движения, а ось катода направляют под углом 15-180o к оси вращающегося анода, который заземляют, при этом обрабатываемое изделие также заземляют через регулируемое активное сопротивление и индуктивность, а сопло катодного узла соединяют с плюсом источника питания через активное сопротивление и контактор. Способ плазменной термической обработки реализован в устройстве для его осуществления. 2 с. и 10 з.п. ф-лы, 11 ил.
|
Поиск патентов
Получить полное описание патента